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内容摘要：
二氧化硅名称： 二氧化硅（SiO2）经验告诉我们，氧离子助镀（IAD)SiO将是SiO2薄膜可再现性问题的一个解决方法，并且能在生产环境中以一个可以接受的高速度蒸着薄膜.SiO2薄膜如果压力过大，薄膜将有气孔并且易碎，相反压力过低薄膜将有吸收并且折射率变大，POF收缩袋生产商，需要充分提供高能离子或氧离子以便得到合乎需要的速度和特性SiO2用于防反膜，冷光膜，滤光片，绝缘膜，眼镜膜，紫外膜.透光范围（nm) 折射率（N) 550nm 蒸发温度（℃） 蒸发源 应用 杂气排放量200--2000 1.46 1800-2200 电子，防反膜，增透 少，PVC收缩袋生产商，升华无色颗粒状，折射率稳定，放气量少，和OS-10等高折射率材料组合制备截止膜，滤光片等. 次数用完API KEY 超过次数限制 PVC薄膜可分为PVC软薄膜和PVC硬薄膜。其中硬PVC大约占市场的2/3，软PVC占1/3。软P......
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