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内容摘要：
经固溶时效处理后，铬锆铜晶界处密集分布有细小的黑色析出相，晶内也分布着许多细小的黑色析出相，尺寸约为几微米。随着温度降低曲线向铜侧靠近，在400℃时其溶解度只有0. 03%，此时，固溶体中析出铜错化合物粒子。因此具有体心立方结构的铬和密排六方结构的铬与面心立方结构的铜在常温下都几乎不互溶，但铜和铬不能形成化合物，而铜和错可以形成多种化合物相，同时铬和错也能形成多种化合物相。铬锆铜经热处理后基体为铜，C17410铍铜成分，析出相为Cr相及铬的金属间化合物。 高导铍青铜典型的热处理工艺是，在900～950℃的高温下保温一段时间，完成固溶过程，继之在450～480℃下保温2～4h，实现脱溶析出过程。由于合金中添加较多的钴或镍，宜昌C17410，其弥散强化质点多为钴或镍与铍形成的金属间化合物。为进一步提高合金的强度，往往在固溶热处理之后和时效热处理之前，对合金施行一定程度的冷加工，C174......
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