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内容摘要:
等离子抛光的工艺流程以下为等离子抛光的工艺流程说明,字数控制在250-500字之间:---等离子抛光工艺流程1.预处理阶段-清洗除油:工件经超声波清洗或碱性溶液脱脂,去除表面油污、粉尘及氧化物。-干燥处理:清洗后烘干,确保表面无水渍残留,避免影响电解液导电性。2.设备准备-配置电解液:以环保型无机盐溶液(如硫酸铵、柠檬酸盐)为主,浓度控制在5%-15%,温度设定40-60℃。-安装工件:将工件固定在阴极夹具上,确保与阳极电极(通常为铂/钛合金)间距5-20mm,形成稳定电场。3.抛光过程-通电:施加直流脉冲电压(20-100V),在工件表面电解液层激发等离子体气膜(蒸汽空泡层)。-微蚀刻平整:等离子体气膜产生局部高温(瞬时可达2000℃),使表面微观凸起优先电离溶解,实现分子级材料去除。-参数调控:根据材料特性(如不锈钢、铜合金)调整时间(30s-10min)、电流密度(0.5-......
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