|
内容摘要：
EBL传感器EBL(electron-blocking layer)即电子阻挡层，能够控制LED中电子的流向(阻碍反向漏电流)，提高发光效率。如概述图所示介于MQW(多阱结构)和CBL(电流阻挡层)之间。电子束曝光系统， EBL，又称电子束暴光系统)是一种利用电子束在工件面上扫描直接产生图形的装置。由于SEM、STEM及FIB的工作方式与电子束曝光机十分相近，美国JC Nabity Systems公司是早研发了基于改造商品S或FIB的电子束曝光装置纳米图形发生系统，信阳5wk96765B福田欧曼氮氧传感器，又称电子束微影系统)。电子束曝光技术具有可直接刻画精细图案的优点，且高能电子的波长短(< 1 nm)，可避免绕射效应的困扰，是实验室制作微小纳米电子元件佳的选择。相对于购买昂贵的电子束曝光机台，以既有的SEM等为基础，外加电子束控制系统，透过电脑界面控制电子显微镜中电子束之矢量......
如想进一步了解更多产品内容，可以直接给厂家发送询价表单咨询:
|
|
联系方式
 电话： 0531-85998168 手机：13705317050
 传真： 0531-85998168
 地址： 山东省济南市天桥区蓝翔路56号泉利汽配城21-102
 发布IP： （IP所在地：）
|