|
内容摘要：
真空蒸镀一般金属镀膜大都采用直流溅镀，而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀，基本的原理是在真空中利用辉光放电(glow discharge)将(Ar)离子撞击靶材(target)表面，电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面，这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。一般来说，利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点：(1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料。 真空蒸镀用真空镀膜代替电久......
如想进一步了解更多产品内容，可以直接给厂家发送询价表单咨询:
|
|
联系方式
 电话： 0512-57813516 手机：13962671899
 传真： 0512-57813517
 地址： 江苏省昆山市夏荷路99号港龙财智1幢1520
 发布IP： （IP所在地：）
|