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内容摘要:
真空蒸镀工艺一般包括基片表面清洁、镀膜前的准备、蒸镀、取件、镀后处理、检测、成品等步骤。(1)基片表面清洁。真空室内壁、基片架等表面的油污、锈迹、残余镀料等在真空中易蒸发,直接影响膜层的纯度和结合力。镀前必须清沽干净。主要特点/优势:★ ? ? 完全封闭的系统框架设计,外观更漂亮,使用更安全;是一台兼具美学和用户操控体验的全新升级产品;★ ? ? 前开门真空腔体,蒸镀,方便取放基片、更换蒸发舟、添......
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