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内容摘要:
真空蒸镀将基片放入真空室内,以电阻、电子束、激光等方法加热膜料,使膜料蒸发或升华,泰州蒸镀,气化为具有一定能量(0.1~0.3eV)的粒子(原子、分子或原子团)。气态粒子以基本无碰撞的直线运动飞速传送至基片,蒸镀薄膜,到达基片表面的粒子一部分被反射,另一部分吸附在基片上并发生表面扩散,沉积原子之间产生二维碰撞,真空蒸镀工艺,形成簇团,有的可能在表面短时停留后又蒸发。粒子簇团不断地与扩散粒子相碰撞,......
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