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内容摘要：
1、光陷阱结构。一般单晶硅电池采用化学腐蚀制绒技术，制得绒面的反射率可达到10%以下。目前较为的制绒技术是反应等离子蚀刻技术(RIE)，该技术的优点是和晶硅的晶向无关，适用于较薄的晶硅太阳能板。2、减反射膜。它的基本原理是位于介质和电池表面具有一定折射率的膜，可以使入射光产生的各级反射相互间进行干涉从而完全抵消。在制好绒面的电池表面上蒸镀减反射膜后可以使反射率降至2%左右。3、钝化层：钝化工艺可以......
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