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内容摘要：
真空镀膜我国真空镀膜技术是发展历史轨迹?慧聪表面处理网讯：在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。? ?真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年代初始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装......
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