内容摘要:
光学微电子行业净化工程设计方案分析之无尘车间的特点A、无尘车间洁净度:LCD制屏的简略流程为:清洗→印刷取向膜→磨擦→密封印刷层散布隔垫物→组合→划线和切割→LC注入→贴偏振片→制屏终检。在本设计里是指末端工艺的一些无尘车间,其净化洁净度一般为千级或万级或十万级。背光屏类无尘车间主要是这类产品的冲压车间、组装等无尘车间,其洁净度一般为万级或十万级。B、室内空气参数要求 :(1)温湿度要求:......
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