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内容摘要：
真空镀膜真空电镀的特点1、真空镀膜所获得的金属膜层很薄(一般为0.01~0.1um)，能够严格复zhi出啤件表面的形。2、工作电压不是很高(200V)，操作方便，凤岗真空镀膜工艺，但设备较昂贵。3、蒸镀锅瓶容积小，电镀件出数少，真空镀膜，生产效率较低。4、只限于比钨丝熔点低的金属(如铝、银、铜、金等)镀饰。5、对镀件表面质量要求较高﹐通常电镀前需打底油来弥补工件表面缺陷。6、真空镀膜可......
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