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内容摘要：
什么是光刻掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精i确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝i光的一种结构，称为光刻掩模版。 半导体集成电路制作过程通常需要经过多次光刻工艺，在半导体晶体表面的介质层上开凿各种掺杂窗口、电极接触孔或在导电层上刻蚀金属互连图形。光刻工艺需要一整套（几块多至十几块）相互间能精i确套准的、具有特定几何图形的光复印掩蔽模版。 荷兰的ASML公司垄断了高i端光刻......
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