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内容摘要：
尽管CVD涂层具有很好的性，但CVD工艺亦有其先天缺陷：一是工艺措置温度高，易造成路材料抗弯强度下降；二是薄膜内部呈拉应力状态，易导致路利用时发生微裂纹；三是CVD工艺排放的废气、废液会造成较大环境污染，与今朝鼎力倡导的绿色制造观念相抵触，因此自九十年月中期以来，高温CVD技术的成长和应用受到必然制约。我国PVD技术的成长我国PVD涂层技术的研发工作始于八十年月初期，至八十年月中期研制成功中小型空心阴极离子镀膜机，并开发了高速钢路TiN涂层工艺技术。由于CVD工艺气相沉积所需金属源的制备相对容易，可实现TiN、TiC、TiCN、TiBN、TiB2、Al2O3等单层及多元多层复合涂层的沉积，各种交志牌，涂层与基体连系强度较高，薄膜厚度可达7～9μm，因此到八十年月中后期，美国已有85%的硬质合金工具采用了概况涂层措置，此中CVD涂层占到99%；到九十年月中期，CVD涂层硬质合金刀片在涂层硬质......
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