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内容摘要:
磁控溅射镀膜设备及技术(专利技术)该设备选用磁控溅射镀一层薄薄的膜(MSP)技术性,是这种智能、率的镀膜设备。可依据客户规定配备转动磁控靶、单脉冲溅射靶、中频孪生溅射靶、非均衡磁控溅射靶、霍耳等离子技术源、考夫曼离子源、直流电单脉冲累加式偏压开关电源等,组态灵便、主要用途普遍,主要用于金属材料或非金属材料(塑胶、夹层玻璃、瓷器等)的钢件镀铝、铜、铬、钛金板、银及不锈钢板等陶瓷膜或式陶瓷膜......
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