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内容摘要：
目前抛光机是实现单晶硅片全局平面化的技术设备不过，平面抛光机纳米CeO2抛光硅片的研究还处在初始阶段，抛光液制备技术及相关抛光机理有待进一步完善。我国稀土资源居世界首位，如能开发出适于硅片抛光的纳米CeO2抛光液，锌合金数控拉丝机，将会促进硅片超加工技术的发展，不锈钢数控拉丝机，社会经济效益可观。由此可见稀土抛光粉在单晶硅片的抛光过程中有着重要的作用，对单晶硅片的平面抛光机市场也有着相当大的影响。......
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