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内容摘要：
真空镀膜--磁控溅射镀膜技能一、磁控溅射镀膜－溅射原理：1.使chamber到达真空条件，一般控制在(2~5)E-5torr2.chamber内通入Ar，并启动DC power3.Ar发作电离：Ar Ar+ ＋ e-4.在电场效果下，（电子）会加快飞向anode（阳极）5.在电场效果下，Ar+会加快飞向阴极的target（靶材），target粒子及二次电子被击出，前者到达substrate（基片）表面进行薄膜生长，后者被加快至阴极途中促成更多的电离。6.笔直方向分布的磁力线将电子约束在靶材表面附近，延长其在等离子体中的运动轨道，进步它参与气体分子磕碰和电离过程的几率的效果。 镀膜常用在相机镜头、近视、、老花镜等矫正眼镜上使用。 镀膜是在表面镀上非常薄的透明薄膜。目的是希望减少光的反射，金属真空镀膜厂，增加透光率，金属真空镀膜加工厂家，抗紫外线并抑低耀光、鬼影；不同颜色......
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