青岛泰斯迈仪器设备有限公司
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半导体设备、蒸发台、刻蚀机、离子注入
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产品简介:
Load-lock式Plasma CVD设备CC-200/400是小型的使用便利的可对应从研究开发到量产的设备。
产品特性:
&8226 27.12MHz高密度等离子制程
&8226 SiH4系:SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系:可对应SiO2膜
&8226 以CF4+......
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