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内容摘要：
真空镀膜--磁控溅射镀膜技能一、磁控溅射镀膜－溅射原理：1.使chamber到达真空条件，一般控制在(2~5)E-5torr2.chamber内通入Ar，并启动DC power3.Ar发作电离：Ar Ar+ ＋ e-4.在电场效果下，真空镀膜公司，（电子）会加快飞向anode（阳极）5.在电场效果下，Ar+会加快飞向阴极的target（靶材），target粒子及二次电子被击出，前者到达substrate（基片）表面进行薄膜生长，后者被加快至阴极途中促成更多的电离。6.笔直方向分布的磁力线将电子约束在靶材表面附近，延长其在等离子体中的运动轨道，进步它参与气体分子磕碰和电离过程的几率的效果。 PVD镀膜应用中有什么好处？塑料模具由于其结构复杂决定了加工难度大，故造价相对较高，所以提高模具的寿命就是一个主要课题，尤其镜面和蚀纹面，就特别容易磨损，这一直是一件令人十分苦恼的事情。经过真......
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