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内容摘要：
在真空规范下可下降蒸发原材料的分子、分子结构在奔向塑料制品全过程中合其他分子结构的碰击，下降汽体中的特异性分子结构和蒸发源原材料间的化学变化(如空气氧化等)，进而出示膜层的致相对密度、纯净度、堆积速度和与粘合力。一般真空蒸镀规矩破间内工作压力相当于或小于10-2Pa，针对蒸发源与被镀工艺品和塑料薄膜规矩很高的场所，塑料真空镀膜厂，则规矩工作压力更低(10-5Pa)。涂层薄厚0.04-0.1um过薄，透射率低;太厚，粘合力差，易掉下来。薄厚0.04时透射率为90%。塑料真空镀膜 PVD镀膜可以镀出以下几种膜层 聚涂层技术是一种环保的表面处理方法，可以真正获得微米级涂层，无污染。它可以制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等。)、氮化物膜(TiN[钛]、ZrN[锆金]、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN)和氧化物膜(如TiO)。 PVD镀膜层的厚度 聚涂层的厚度为微米......
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