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内容摘要：
金属的化学抛光，两酸抛光配方，常用、磷酸、硫酸、盐酸等酸性溶液抛光铝、铝合金、钥、钥合金，碳钢及不锈钢等。有时还加人明胶或甘油之类。抛光时必须严格控制溶液温度和时间。温室从室温到90℃，时间自数秒到数分钟，要根据材料、溶液成分经实验后才能确定值。半导体材料的化学抛光，两酸抛光 公司，如锗和硅等半导体基片在机械研磨平整后，还要终用化学抛光去除表面杂质和变质层。常用和、硫酸混合溶液或和氢氧化铵的水溶液。 （1）在连续性的批量化学抛光作业中，要获得比较稳定的抛光效果，就必须对受热易分解或消耗量大的溶液组分进行及时的补充和调整。何时补加，多长时间补一次，两酸抛光厂家，每次补多少，均要由具体情况（如抛光制件的多少，抛光溶液的组成等）酌情控制。直观的依据是抛光表面的光亮度变化情况，即依抛光效果来调整。（2）化学抛光液的酸值一般应稳定在1.5~2.5之间。（3）化学抛光作业中，抛光溶液中的铁含量......
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