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内容摘要：
氧化抛光液氧化抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。氧化铝和碳化硅抛光液是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。 化学抛光：可用于仪器制造、铝型材铝质反光镜的制造，以及其他零件和镀层的装饰性加工.同电解抛光比较，化学抛光的优点是：不需外加电源，可以处理形状更为复杂的零件，生产等.但是化学抛光的表面质量，一般略电解抛光，溶液的调整和再生也比较困难，舟山化拋剂，往往抛光过程中会析出氧化氮等有害气体。其实这点现在的技术也已经解决，化拋剂销售，市面上有如两酸化学抛光高光光亮剂等抛光试剂，其不含，不会产生有危害的黄烟 1.化......
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