|
内容摘要：
化学清洗在半导体器件工艺实验中化学清洗在半导体器件工艺实验中。化学清洗是指去除吸附在半导体、金属材料和器具表面的各种有害杂质或油渍。清洗方法是利用各种化学试剂和有机助熔剂，使吸附在被清洗物体表面的杂质和油类发生化学反应溶解，或辅以超声波、加热、真空等物理措施，将杂质除去。从要清洁的物体。表面解吸（或解吸），然后......
如想进一步了解更多产品内容，可以直接给厂家发送询价表单咨询:
|
|
联系方式
 电话： 1860-2672256 手机：18602672256
 传真： 1860-2672256
 地址： 天津市西青区中北镇环球国际A座1501
 发布IP： （IP所在地：）
|