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内容摘要：
CMP技术的概念是1965年由Manto提出。该技术是用于获取高质量的玻璃表面，如望远镜等。1988年IBM开始将CMP技术运用于4MDRAM 的制造中，而自从1991年IBM将CMP成功应用到64MDRAM 的生产中以后，CMP技术在世界各地迅速发展起来。区别于传统的纯机械或纯化学的抛光方法，三酸抛光销售，CMP通过化学的和机械的综合作用，三酸抛光价格，从而避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤和由单纯化学抛光易造成的抛光速度慢、表面平整度和抛光一致性差等缺点。它利用了磨损中的“软磨硬”原理，即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光。 抛光加工的特点1、抛光可提高工件和抗腐蚀的性能。2、抛光也可以作为一道中间工序，为油漆、电镀等后道工序提供漆膜、镀层附着能力强的表面。3、抛光是一种应用广泛的磨料加工方法，金属及非金属材料制品，福建三酸抛光，精密机电产品，日常生活用品，均可采用抛......
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