|
内容摘要：
NR77-20000PMSDS光刻胶运输标识及注意事项标签上标明的意思R标识R10 YI燃。S标识S16远离火源-禁止吸烟。S 24避免接触皮肤。S 33对静电放电采取预防措施。S 9将容器保持在通风良好的地方。水生毒性通过自然环境中的化学、光化学和微生物降解来分解。一般不通过水解降解。300 ppm对水生生物是安全的。卤化反应可能发生在水环境中。 光刻的工序下面我们来详细介绍一下光刻的工序：一、清洗硅片（Wafer Clean）清洗硅片的目的是去除污染物去除颗粒、减少其它缺陷，提高光刻胶黏附性基本步骤：化学清洗——漂洗——烘干。自1970年美国RCA实验室提出的浸泡式RCA化学清洗工艺得到了广泛应用，PR1 1500A1光刻胶，1978年RCA实验室又推出兆声清洗工艺，PR1 1500A1光刻胶报价，近几年来以RCA清洗理论为基础的各种清洗技术不断被开发出来，例如：美国......
如想进一步了解更多产品内容，可以直接给厂家发送询价表单咨询:
|
|
联系方式
 电话： 010-63332310 手机：15201255285
 传真： 010-63332310
 地址： 北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208
 发布IP： （IP所在地：）
|