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内容摘要：
PR1-2000A1NR9 3000PY光刻胶 4，曝光 前烘好的存底放在光刻胶衬底放在光刻机上，经与光刻版对准后，进行曝光，接受光照的光刻胶发生化学变化，形成潜影，NR9 3000PY光刻胶厂家， 光源与光刻胶相匹配，也就是光源波长在光刻胶的敏感波段； 对准：指光刻板上与衬底的对版标记应准确对准，这样一套光刻版各版之间的图形才能彼此套准。 曝光时间，由光源强度，光刻胶种类，NR9 3000PY光刻胶，厚度等决定， 另外，为降低驻波效应影响，可在曝光后需进行烘焙，称为光后烘焙（PEB） 光刻胶介绍 光刻胶介绍 光刻胶是一种对光线、温度、湿度十分敏感的材料，NR9 3000PY光刻胶哪里有，可以在光照后发生化学性质的改变，这是整个工艺的基础。 光刻胶有不同的类型，PMMA（PMGI）以及DNQ（酚醛树脂）等材料都可以做光刻胶。 目前光刻胶市场上的参与者多是来自于美国、日本、韩国等......
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