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内容摘要：
光刻胶的作用有什么？光刻是将图形由掩膜版上转移到硅片上，为后续的刻蚀步骤作准备。在光刻过程中，需在硅片上涂一层光刻胶，经紫外线曝光后，光刻胶的化学性质发生变化，光刻胶报价，在通过显影后，被曝光的光刻胶将被去除，从而实现将电路图形由掩膜版转移到光刻胶上。再经过刻蚀过程，实现电路图形由光刻胶转移到硅片上。在刻蚀过程中，光刻胶起防腐蚀的保护作用。 硅片模具加工如何选择光刻胶呢？注意事项：①若腐蚀液为碱性，则不宜用正性光刻胶；②看光刻机型式，若是投影方式，用常规负胶时氮气环境可能会有些问题③负性胶价格成本低，正性胶较贵；④工艺方面：负性胶能很好地获得单根线，而正性胶可获得孤立的洞和槽；⑤健康方面：负性胶为有机溶液处理，不利于环境；正性胶属于水溶液，对健康、环境无害。以上内容由赛米莱德为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助！光刻胶分类情况是怎样1、光聚合型。2、光分解型，采用含有叠氮醌类化合物......
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