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内容摘要：
光刻胶分类根据化学反应机理和显影原理的不同，光刻胶可以分为负性胶和正性胶。对某些溶剂可溶，但经曝光后形成不可溶物质的是负性胶;反之，对某些溶剂不可溶，经曝光后变成可溶的为正性胶。从需求端来看，光刻胶可分为半导体光刻胶、面板光刻胶和PCB光刻胶。其中，半导体光刻胶的技术壁垒较高。想要了解更多赛米莱德的相关信息，欢迎拨打图片上的热线电话！ 光刻胶的组成以下内容由赛米莱德为您提供，希望对同行业的朋友有所帮助。树脂( resin/polymer)，光刻胶中不同材料的粘合剂，给与光刻胶的机械与化学性质( 如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等);感光剂，感光剂对光能发生光化学反应;溶剂(Solvent)，保持光刻胶的液体状态，使之具有良好的流动性;添加剂( Additive )，用以改变光刻胶的某些特性，光刻胶 FUTURREX，如改善光刻胶发生反射而添加染色剂等。负性光刻胶。树脂是聚异戊二烯，一-......
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