|
内容摘要：
光刻胶光增感剂是引发助剂，能吸收光能并转移给光引发剂，或本身不吸收光能但协同参与光化学反应，起到提高引发效率的作用。光致产酸剂吸收光能生成酸性物质并使曝光区域发生酸解反应，用于化学增幅型光刻胶。助剂根据不同的用途添加的颜料、固化剂、分散剂等调节性能的添加剂。主要技术参数分辨率（resolution）是指光刻胶可再现图形的小尺寸。一般用关键尺寸来（CD，CriticalDimension）衡量分辨率。 光刻的工序下面我们来详细介绍一下光刻的工序：一、清洗硅片（Wafer Clean）清洗硅片的目的是去除污染物去除颗粒、减少其它缺陷，提高光刻胶黏附性基本步骤：化学清洗——漂洗——烘干。自1970年美国RCA实验室提出的浸泡式RCA化学清洗工艺得到了广泛应用，1978年RCA实验室又推出兆声清洗工艺，近几年来以RCA清洗理论为基础的各种清洗技术不断被开发出来，例如：美国FSI公司推出离心......
如想进一步了解更多产品内容，可以直接给厂家发送询价表单咨询:
|
|
联系方式
 电话： 010-63332310 手机：15201255285
 传真： 010-63332310
 地址： 北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208
 发布IP： （IP所在地：）
|