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内容摘要：
NR77-5000PYPR1-2000A1 试验操作流程PR1-2000A1的厚度范围可以做到 1500到3500nm，如下以膜厚2900nm为列；1，静态滴胶后以1300转/分速度持续40秒。同时必须需要在1秒内达到从0转/分到1300转/分的升速度；2，前烘：热板120度120秒；3，冷却至室温；4，用波长为365，406，436的波长曝光，5，在温度为20-25度，使用RD6浸泡式、喷雾、显影 ；6，去除光刻胶，可使用CH3COCH3，RR5，NR94 8000PY光刻胶哪家好，RR41等。 正负光刻胶正负光刻胶光刻胶分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，NR94 8000PY光刻胶，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。正胶的图像与掩模板的图像是一致的，故此叫正胶，利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。一般来......
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