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内容摘要：
光刻胶光刻胶由光引发剂、树脂、溶剂等基础组分组成，又被称为光致抗蚀剂，这是一种对光非常敏感的化合物。此外，光刻胶中还会添加光增感剂、光致产酸剂等成分来达到提高光引发效率、优化线路图形精密度的目的。在受到紫外光曝光后，NR26 25000P光刻胶哪里有，它在显影液中的溶解度会发生变化。分类根据光刻胶按照如何响应紫外光的特性可以分为两类。正胶曝光前对显影液不可溶，而曝光后变成了可溶的，能得到与掩模板遮光区相同的图形。优点：分辨率高、对比度好。缺点：粘附性差、抗刻蚀能力差、高成本。灵敏度：曝光区域光刻胶完全溶解时所需的能量负胶egativePhoto Resist）与正胶反之。优点： 良好的粘附能力和抗刻蚀能力、感光速度快。缺点： 显影时发生变形和膨胀，导致其分辨率。灵敏度：保留曝光区域光刻胶原始厚度的50%所需的能量。 光刻胶：用化学反应进行图像转移的媒介光刻胶具有光化学敏感性，其经过......
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