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内容摘要：
光刻胶：半导体技术壁垒较高的材料之一光刻是整个集成电路制造过程中耗时长、难度大的工艺，耗时占IC制造50%左右，成本约占IC生产成本的1/3。光刻胶是光刻过程重要的耗材，光刻胶的质量对光刻工艺有着重要影响。光刻是将图形由掩膜版上转移到硅片上，NR94 8000PY光刻胶报价，为后续的刻蚀步骤作准备。在光刻过程中，需在硅片上涂一层光刻胶，经紫外线曝光后，光刻胶的化学性质发生变化，在通过显影后，被曝光的光刻胶将被去除，从而实现将电路图形由掩膜版转移到光刻胶上。再经过刻蚀过程，实现电路图形由光刻胶转移到硅片上。在刻蚀过程中，NR94 8000PY光刻胶厂家，光刻胶起防腐蚀的保护作用。以上就是为大家介绍的全部内容，希望对大家有所帮助。如果您想要了解更多光刻胶的知识，欢迎拨打图片上的热线联系我们。 光刻胶相关信息赛米莱德——光刻胶供应商，我们为您带来以下信息。光刻胶是印刷线路板、显示面板、集......
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