|
内容摘要：
微流控芯片硅片模具加工如何选择光刻胶呢？赛米莱德生产、销售光刻胶，光阻剂光刻胶哪家好，我们为您分析该产品的以下信息。一般来说线宽的用正胶，线窄的用负胶，正性光刻胶比负性的精度要高，负胶显影后图形有涨缩，负性胶限制在2~3μm.，而正性胶的分辨力优于0.5μm 导致影响精度，正性胶则无这方面的影响。虽然使用更薄的胶层厚度可以改善负性胶的分辨率，但是薄负性胶会影响。同种厚度的正负胶，在对于抗湿法和腐蚀性方面负胶更胜一筹，正胶难以企及。 光刻胶分类根据化学反应机理和显影原理的不同，光刻胶可以分为负性胶和正性胶。对某些溶剂可溶，但经曝光后形成不可溶物质的是负性胶;反之，对某些溶剂不可溶，经曝光后变成可溶的为正性胶。从需求端来看，光刻胶可分为半导体光刻胶、面板光刻胶和PCB光刻胶。其中，光阻剂光刻胶，半导体光刻胶的技术壁垒较高。想要了解更多赛米莱德的相关信息，欢迎拨打图片上的热线电话！ ......
如想进一步了解更多产品内容，可以直接给厂家发送询价表单咨询:
|
|
联系方式
 电话： 010-63332310 手机：15201255285
 传真： 010-63332310
 地址： 北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208
 发布IP： （IP所在地：）
|