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内容摘要：
PVD镀膜的具体原理是什么？答:物理气相沉积是一种物理气相反应生长法，沉积过程是在真空或低气气体放电条件下，不锈钢真空镀膜厂商，涂层物质源是固态物质，经过“蒸发或溅射”后，在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固态物质涂层。PVD镀膜与传统的化学电镀（水电镀）相比有何优点？答: PVD镀膜与传统的化学电镀的相同点是，两者都属于表面处理的范畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。 真空镀膜主要方法：溅射镀膜。溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上2000V高压电，激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，不锈钢真空镀膜厂家，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。真空溅射薄膜的特点：可制备与靶材不同的新的物质膜。如果溅射时通入反应性气体，容桂不锈钢真空镀膜，使其与靶材发生化学反应，这样就可以得到与靶材完全不同的新物质膜。真空镀膜的用途：航天。如果零件要以每小时......
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