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内容摘要：
行通常所说的“IP”（ion ting）离子镀膜，玻璃真空镀膜加工，是因为在PVD技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用，为了强调离子的作 用，而统称为离子镀膜。真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片（光盘）上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。 基体外表状况对掩盖才能的影响 基体资料的外表状况是影响掩盖才能的主要要素之一。实习标明，金属在不一样基体资料上电堆积时，芦苞玻璃真空镀膜，同一镀液的掩盖才能不一样也很大。如用铬酸溶液镀铬，玻璃真空镀膜工厂，金属铬在铜、镍、黄铜和钢上堆积时，玻璃真空镀膜公司，镀液的掩盖才能顺次递减。这是因为当金属离子在不一样的基体资料上复原堆积时，其过电位的数值有很大的不一样。过电位较小的分出电位较正，即便在电流密度较低的部位也能到达其分出电位的数值，因而其......
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