|
内容摘要：
厚度均匀性主要取决于：1、基片材料与靶材的晶格匹配程度2、基片表面温度3、蒸发功率，速率4、真空度5、镀膜时间，厚度大小。组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，不锈钢真空镀膜公司，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。晶向均匀性：1、晶格匹配度2、基片温度3、蒸发速率对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。 pvd真空电镀的功能原理怎么样？pvd真空电镀的原理主要是物理气相沉积，其是当前国际上广泛应用的的表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。pvd真空电镀，抗腐蚀，耐腐蚀，化学性能稳定，抗酸。手机外壳P......
如想进一步了解更多产品内容，可以直接给厂家发送询价表单咨询:
|
|
联系方式
 电话： 0769-82318997 手机：13631702315
 传真： 0769-81128997
 地址： 东莞市寮步镇良边胡屋工业区
 发布IP： （IP所在地：）
|