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内容摘要：
真空镀膜 编辑一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术先用于生产光学镜片，如航海望远镜镜片等。后延伸到其他功能薄膜，模具配件镀钛，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等。如手表外壳镀仿金色，机械刀具镀膜，改变加工硬性。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，镀钛加工，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。 多弧离子镀是以物理沉积法(简称PVD）于高真空炉中将金属蒸发，莞城镀钛，而在被镀基材表面形成一层超薄，超硬的薄膜，即为高科技氮化钛(TIN)、碳化钛(TIC)、氮碳化钛(TICN)、氮化锆(ZrN)、 氮化铬(CrN)、氮化铝钛(TiAlN)、其硬度比碳化钨金还硬，这屋薄膜的耗、抗腐蚀、耐高......
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