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内容摘要：
EDI设备的优点：在半导体生产中，超纯水设备，超纯水主要用于清洗硅片。少量水用于配制药剂、硅片氧化的蒸汽源、某些设备的冷却水、电镀溶液的配制。集成电路产品的质量与产量密切相关。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，重金属(Au、Ag、Cu等)会降低PN结的耐压力，III族元素 (B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化。细菌高温炭化水中的磷(约为灰分的20%~50%)会使p型硅片局部变为N型硅片，导致器件性能下降。水中的颗粒，包括细菌，如果附着在硅片表面，会导致短路或性能恶化。可见，超纯水在半导体行业的必要性。 超纯水设备运行有问题主要看哪些指标超纯水设备运行有问题主要看哪些指标 设备运行受到影响主要看出水水质与操作电压两个指标，当两个指标出现异常时，就要考虑设备运行是否出现故障了。所以，建议EDI在适当的电压下运行......
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