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内容摘要：
直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，实验室净化工程，特别是怕钠的半导体车间，医疗净化工程，这种车间不宜超过25度。净化工程的步的关键是设计，工程设计水平的好与坏将直接关系到整个工程之后的施工，还会影响净化工程今后的稳定性、可靠性、经济性。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻工艺中，pcr实验室净化工程，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。 无尘净化车间工程的洁净度受哪些因素影响？墙体工程对净化工程洁净度的影响：内外墙抹灰，宿州净化工程，由于抹灰是在砌体与混凝土梁柱的组合体上进行，界面处易引起裂缝。另外还有墙体本身的密实性，外墙灰缝不密实时会引起浸......
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