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内容摘要：
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碳化物靶溅射薄膜的结晶程度和相应的力学性能为了提高碳化物靶溅射薄膜的结晶程度和相应的力学性能，采用等化学计量比的vc靶（n（c）：n（V）=1：1）和富V的VC靶（n（c）：n（v）=0．75：1）通过磁控溅射方法制备了一系列VC薄膜，利用EDS、XRD、SEM和微力学探针研究了靶成分、溅射气压和基片温度对薄膜化学成分、微结构和力学性能的影响．结果表明，对于等化学计量比的VC靶，在Ar气压为2．4-3．2Pa的范围内可获得结晶程度和硬度较高的VC薄膜，其硬度为28GPa．而采用富V的VC靶时，在较低的Ar气压（0．6-1．8Pa）下就可获得结晶程度高的VC薄膜，其硬度达到31．4GPa．可见，相对于溅射参数的Ar气压和基片温度，碳化钒生产厂家，靶的成分对于所获薄膜的成分、微结构和力学性能影响更显著，因而适当提高靶中金属组分......
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