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内容摘要：
企业视频展播，请点击播放视频作者：芜湖人本合金有限责任公司
采用碳化钒靶的磁控溅射方法采用碳化钒靶的磁控溅射方法在不同的Ar气压下制备了一系列碳化钒薄膜，利用能量分析光谱仪，X射线衍射，扫描电子显微镜，原子力显微镜和微力学探针研究了气压对薄膜成分、相组成、微结构以及力学性能的影响。结果表明磁控溅射VC陶瓷靶可以方便地制备晶体态的单相碳化钒薄膜，高纯钒，并且溅射气压对薄膜的化学成分、相组成、微结构以及相应的力学性有较大的影响。在溅射气压为2.4~3.2 Pa的范围内，碳化钒报价，可获得结晶程度好和硬度与弹性模量较高的碳化钒薄膜，其高硬度和弹性模量分别为28，269 GPa。低的溅射气压（0.32~0.9 Pa）下，超细碳化钒，所得薄膜结晶较差且硬度较低;过高的溅射气压（〉4.0 Pa），薄膜的溅射速率降低，结晶变差，其硬度和弹性模量亦随之降低。低气压下薄膜碳含量较高和高气压下溅射原子......
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