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内容摘要：
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。厚度均匀性主要取决于：1、基片材料与靶材的晶格匹配程度2、基片表面温度3、蒸发功率，速率4. 真空度5. 镀膜时间，厚度大小组分均匀性：蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，真空镀膜系统，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。如需了解更多真空镀膜的相关信息，欢迎关注艾明坷网站或拨打图片上的电话询！ ST系列镀膜机ST系列镀膜机系我司标准化产品，满足大部分实验室科研需求，丰富的可选配置也可响应您的特殊需要。特点：1、集成一体化结构。2、极限真空度高，可达7×10-5Pa，可保证更高的镀膜纯净度，提高镀膜质量。3、从大气到工作背景真空（7×10-4Pa）时间短，30分钟左右（充干燥氮气）。 系统停泵关机12小时后真空度：≤8Pa。4、整机采用柜式结构，密封性能好，防尘防水，安全。......
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