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内容摘要：
离子镀基本原理：在真空条件下，新乡镀钛选哪家，采用某种等离子体电离技术，使镀料原子部分电离成离子，同时产生许多高能量的中性原子，在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下，装饰镀钛选哪家，离子沉积于基体表面形成薄膜。九、离子镀的工艺过程：蒸发料的粒子作为带正电荷的高能离子在高压阴极（即工件）的吸引下，以很高的速度注入到工件表面。 磁控溅射是70年代在阴极溅射的基础上发展起来的一种新型溅射镀膜法，由于它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的致命弱点，因此获得了迅速的发展和广泛的应用.1. 磁控溅射:离子轰击靶材将靶面原子击出的现象称为溅射.溅射产生的原子沉积在基体(工件)表面即实现溅射镀膜.磁控溅射的基本原理:磁控溅射是在溅射区加了与电场方向垂直的磁场，处于正交电场区E和磁场B中的电子的运动方程，金属表面处理PVD镀钛种类：氮化钛(TiN)，真空镀钛选哪家，镀铬(......
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