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内容摘要：
磁控溅射是70年代在阴极溅射的基础上发展起来的一种新型溅射镀膜法，由于它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的致命弱点，因此获得了迅速的发展和广泛的应用.1. 磁控溅射:离子轰击靶材将靶面原子击出的现象称为溅射.溅射产生的原子沉积在基体(工件)表面即实现溅射镀膜.磁控溅射的基本原理:磁控溅射是在溅射区加了与电场方向垂直的磁场，装饰镀钛厂家电话，处于正交电场区E和磁场B中的电子的运动方程， PVD是英文Physical VaporDeition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术，表面镀钛厂家电话，在基材上沉积形成不同颜色和质感的薄膜。PVD膜层赋予产品表面金属质感和丰富的颜色，并改善、耐腐蚀性，延长寿命。已经广泛应用于表壳、表带、手机壳、建筑五金、模具刀具等产品。真空镀钛是指在真空的环境下，采......
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