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内容摘要：
金属及半导体材料的生产经常会用到石墨粉坩埚，为了让金属和半导体材料达到一定的纯度，减少杂质的数量，要求使用含碳量很高，杂质很低的石墨粉。这时在加工时就需要对石墨粉进行杂质去除。生产石墨粉时，从原材料的选择上就应该开始严格的控制杂质的含量，要选择灰份低的原材料，并在加工石墨粉过程中防止增加杂质。很多杂质元素的氧化物在高温的情况下在不断分解和蒸发，从而保证生产出来的石墨粉的纯度。在生产一般石墨粉化产品时，炉芯温度达到2300℃左右，残留杂质含量为0.1%—0.3%左右。如果将炉芯温度提高到2500-3000℃，那残留杂质含量将会大大减少。生产石墨粉产品时，电阻料及保温料通常使用低灰分的石油焦。 一般80的土状石墨烘干后可以直接做增碳剂，但都是很低级别铸件或者前期使用的产品，90的鳞片石墨也是一样的效果，但是这两个产品的杂质都很多，不容易去除，在一个就是吸收率也不高。天然鳞片石墨分......
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