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内容摘要：
溅射技术:溅射技术按产生等离子体的方式可分为:a. 利用直流辉光放电的二极溅射;b. 利用热丝弧光放电的三极溅射;c. 利用射频放电的射频溅射;d. 利用封闭跑道磁场控制辉光放电的磁控溅射.2 磁控溅射阴极结构:目前工业用磁控溅射装置主要是采用矩形平面磁控溅射阴极(图a)，一般使用的靶材尺寸有两种规格: VT机:长×宽×厚(450.5×120×6)mm; ZCK机: 460×100×6.圆柱形磁控溅射阴极也逐步运用到生产当中(图b)，两者相比，平面靶材的利用率只有20~30%，即利用率低. 增强型磁控阴极弧：阴极弧技术是在真空条件下，通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态，金属镀钛厂家电话，从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用，镀钛厂家电话，将靶材表面的电弧加以有效地控制，使材料的离化率更高，薄膜性能更加优异。 过滤阴极弧：过滤阴极电弧(FCA )配......
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