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内容摘要：
真空镀膜系统离子蒸发及溅射源 多弧镀的蒸发源一般为圆饼形，俗称圆饼靶，也有长方形的多弧靶。靶座中装有磁铁，通过前后移动磁铁，改变磁场强度，可调整弧斑移动速度及轨迹。为了降低靶及靶座的温度，要给靶座不断通入冷却水。为了保证靶与靶座之间的高导电、导热性，还可以在靶与靶座之间加锡垫片。磁控溅射镀膜一般采用长方形或圆柱形溅射阴极。 现代真空镀膜机膜厚测量及监控方法涂层的镀膜机控制方法是直接的石英晶体微天平(QCM)的方法，该仪器可以直接驱动的蒸发源，通过PID控制回路传动挡板，使蒸发率。只要仪器和系统控制软件的连接，它可以控制涂层的全过程。但(QCM)的准确性是有限的，镀膜机部分原因是其监测代替光学厚度的涂层质量。此外，虽然QCM在低温下非常稳定，但温度高，它将成为对温度很敏感。在长时间的加热过程中，镀膜机很难避免传感器为敏感的区域，导致薄膜的重大错误。 光学监测是一种涂层优选的监控模式，......
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