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内容摘要：
溅射镀膜基本原理：充(Ar)气的真空条件下，使气进行辉光放电，这时(Ar)原子电离成离子(Ar )，离子在电场力的作用下，加速轰击以镀料制作的阴极靶材，靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。 溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在l0-2Pa～10Pa范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，真空不锈钢镀钛公司，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，鹿邑真空不锈钢镀钛，沉积的膜易于均匀。 可见，多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣，为了尽可能 地发挥它们各自的性，实现互补，将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。在工艺上出现了多弧镀打底，然后利用磁控溅射法增厚涂层，后再利用多弧镀达到终稳定的表面涂层颜色的新方法。大约在八十年代中后期，出现了热阴极电子蒸发离子镀、热阴极弧磁控等离子镀膜机，应用效果很好，使TiN 涂层刀具很快得到普及性应用。PVD镀钛通常称谓：镀......
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