|
内容摘要：
基片置于合适的位置是获得均匀薄膜的前提条件.b、压强的大小. 为了保证膜层质量，压强应尽可能低Pr≦(Pa)L表示蒸发源到基片的距离为L(cm)。c、蒸发速率.蒸发速率小时，沉积的膜料原子(或分子)上立刻吸附气体分子，因而形成的膜层结构疏松，镀钛厂家电话，颗粒粗大，缺陷多;反之，膜层结构均匀致密，机械强度高，膜层内应力大.d、基片的温度.在通常情况下，基片温度高时，吸附原子的动能随之增大，形成的薄膜容易结晶化，并使晶格缺陷减少;基片温度低时，金属镀钛厂家电话，则没有足够大的能量供给吸附原子，因而容易形成无定形态薄膜. PVD技术的应用范围及优缺点其应用范围是：1）碳钢、合金钢、不锈钢及钛合金等金属材料；2）金属材料的表面硬度至少需要在HV170以上。其优点是:与传统磁控溅射单色PVD技术相比，双色PVD工艺更为复杂，流程更为繁杂，太康镀钛厂家电话，生产难度高，但外观效果，两种......
如想进一步了解更多产品内容，可以直接给厂家发送询价表单咨询:
|
|
联系方式
 电话： 1593-9088815 手机：15939088815
 传真： 1593-9088815
 地址： 河南省商丘市示范区中州办事处105国道与310国道交叉口北1公里路东东厂房3号门
 发布IP： （IP所在地：）
|