微弧氧化的起源
微弧氧化(MAO)是一种在轻金属表面原位生长陶瓷氧化膜的新技术。美国五十年代在某些兵工厂开始研究阳极火花沉积，前苏联从七十年代中期开始独立研究微弧氧化且具较高水平，镁合金微弧氧化封孔，八十年代中、后期以来微弧氧化研究已成为国际研究热点并开始应用，九十年代初国内开始起步。微弧氧化在航空、航天、机械、电子、装饰等领域有广泛应用前景。
微弧氧化技术工艺优点
微弧氧化处理既与电镀锌等消耗性阴极处理不同，镁合金微弧氧化应用，可用非消耗性的不锈钢作阴极，避免了重金属离子从阴极溶入并随废水流出污染环境；又与电镀硬铬和重（或硬）阳极氧化等依靠消耗溶液中溶质元素在被处理样品表面形成保护膜层的工艺不同，镁合金微弧氧化，微弧氧化处理主要在铝、镁等轻合金表面生成金属自身氧化物的陶瓷层，理论上属不消耗溶质元素的处理工艺。因此该工艺可以被视为既不消耗阴极又基本不消耗电解液溶质元素的清洁处理。
微弧氧化技术的发展
微弧氧化技术是北京师范大学核科学与技术学院（低能核物理研究所）（北京市辐射中心）1992年起开发的科研课题，先后得到教委、九五863高技术研究发展计划、自然科学基jin的大力支持。1997-1998年完成“863”计划项目“等离子体微弧氧化表面改性技术”，1997年12月“铝合金微弧氧化技术”通过教委和863组的联合鉴定。2002年微弧氧化设备获得重点新产品证书，2004年微弧氧化双极性大功率脉冲电源获得发明。
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