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商丘金常来金属制品有限公司










薄膜的成膜过程,是一个物质形态的转变过程,不可避免地在成膜后的膜层中会有应力存在,对于多层膜来说有不同膜料的组合,各膜层体现出的应力是有所不同的,有的是张应力、有的是压应力,还有膜层及基片的热应力。

应力的存在对膜强度是有害的,处理镀钛多少钱,轻者是膜层耐不住摩擦,重者,造成膜层的龟裂或网状细道子。

对于减反膜,由于层数不多,应力一般体现不明显,(但有些硝材的镜片即便是减反膜也有应力问题存在。)而层数较多的高反膜、滤光膜,处理镀钛服务,应力是一个常见的不良因素,应特别注意。 次数用完API KEY 超过次数限制



膜强度的不良(膜弱)主要表现为:①擦拭或用胶带拉撕,产生成片脱落;

②擦拭或用胶带拉撕,产生点状脱落;

③水煮15分钟后用胶带拉撕产生点状或片状脱落;

④用橡皮头、1Kg力摩擦40次,山东处理镀钛,有道子产生;

⑤膜层擦拭或未擦拭出现龟裂纹、网状细道子。

改善思路:基片与膜层的结合是首要考虑的,处理镀钛电话,其次是膜表面硬度光滑度以及膜应力。膜强度不良的产生原因及对策:①基片与膜层的结合。一般情况,在减反膜中,这是膜弱的主要原因。由于基片表面在光学冷加工及清洗过程中不可避免地会有一些有害杂质附着在表面上,而基片的表面由于光学冷加工的作用,总有一些破坏层,深入在破坏层的杂质 次数用完API KEY 超过次数限制



因此,如果要防止蒸发粒子的大量散射,在真空蒸发镀膜设备中,真空镀膜室的起始真空度必须高于10-2Pa。由于残余气体在蒸镀过程中对膜层的影响很大,因此分析真空室内残余气体的来源,借以消除残余气体对薄膜质量的影响是重要的。真空室中残余气体分子的来源主要是真空镀膜室内表面上的解吸放气、蒸发源释放的气体、抽气系统的返流以及设备的漏气等原因所造成的。若镀膜设备的结构设计及制造良好,则真空抽气系统的返流及设备的漏气并不会造成严重的影响。 次数用完API KEY 超过次数限制


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